濺射鍍膜鈮靶材表面產(chǎn)生紋路的原因

發(fā)布時(shí)間：

2024-02-27

　　鈮靶材主要應(yīng)用于光學(xué)鍍膜、表面工程材料鍍膜及耐熱、耐腐蝕高導(dǎo)電等鍍膜行業(yè)。在光學(xué)鍍膜領(lǐng)域，主要應(yīng)用于眼科光學(xué)產(chǎn)品、鏡頭、精密光學(xué)、大面積鍍膜、3D鍍膜等方面。

　　鈮靶材通常稱為裸靶，首先將其與銅背靶進(jìn)行焊接，然后進(jìn)行濺射，將鈮原子以氧化物形式淀積在基板材料上，實(shí)現(xiàn)濺射鍍膜。隨著鈮靶材技術(shù)與應(yīng)用的不斷深入與拓展，對鈮靶材的組織均勻性要求提高，主要表現(xiàn)在晶粒尺寸細(xì)化、無明顯織構(gòu)取向和化學(xué)純度提高三個(gè)方面。

　　整靶組織性能分布均勻，這對保證鈮靶材的濺射性能至關(guān)重要。工業(yè)生產(chǎn)中遇到的鈮靶材表面通常會出現(xiàn)規(guī)律性紋路，這會大大影響靶材的濺射性能，我們該如何提高靶材利用率呢?

　　經(jīng)研究發(fā)現(xiàn)，雜質(zhì)含量(靶材純度)是影響純度的重要原因。原材料的化學(xué)成分不均，雜質(zhì)富集，經(jīng)過后期的軋制加工，形成鈮靶材表面有規(guī)律的紋路; 消除原材料成分分布不均和雜質(zhì)富集，可避免鈮靶材表面有規(guī)律紋路的形成。而晶粒大小跟組織成分對靶材的影響幾乎是可以忽略不計(jì)的。

高純鎢靶材的制備技術(shù)與應(yīng)用

純鉬板的實(shí)際用途廣泛

2025-05-17

鐵合金在線2025年鉬產(chǎn)業(yè)發(fā)展論壇

2025-05-06

五四青年節(jié)

2025-05-04

2025年勞動節(jié)放假的通知

2025-04-30

洛陽邁特威新材料科技有限公司發(fā)布最新招聘信息，誠邀英才共創(chuàng)未來

2025-04-24

邁特威逆境中求變，探尋全新增長點(diǎn)實(shí)現(xiàn)突破